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单向流洁净室避免絮流及交叉感染 | |||||
作者:icccs 文章来源:本站原创 点击数: 更新时间:2010-5-10 | |||||
单向流洁净室避免絮流及交叉感染ICCCS
关键词: 洁净室 单向流 干扰 物理障碍 交叉污染 布置 概要: 在高洁净度的洁净室洁净区中工艺设备的摆放以及不规范的影响气流的操作都会对产品的生产以及工艺要求的洁净度有很大的影响,在单向流洁净室布置时,对于设备的布置以及操作程序安排,人员流动、物料传输等都可能对洁净气流造成物理障碍,如何避免发成絮流或交叉污染见下文:
一、调整工艺设备布置在上图中,设备或操作台面置于角落,当单向气流通过该设备时,在角落产生的絮流会对工艺和产品造成污染,解决方法是将设备移开角落,让气流能通过设备或台面与墙壁的缝隙,避免絮流的产生,此时工艺设备及操作产生的尘埃能顺利的被气流带走消除了物理障碍且避免了交叉污染的风险,当设备或台面无法移开角落时可采用表面开通风孔的方式让气流通过。(见下图) 二、改进设备构造与外形 图中设备的构造本身就是影响单向流气流的,该设备前部多出的一部分阻挡了气流的通过,在操作者与设备的夹角部分产生了絮流,解决方法可采用调整设备外形及构造来避免物理障碍以及交叉污染。(见下图) 三、改变人员操作行为 图中人员的操作正好遮挡了洁净气流的通过,操作者头部产生的粒子被气流直接带入工艺产品上,造成了工艺产品的污染,解决方法是通过改变人员的操作行为和习惯来解决污染,值得说明的是,人员的操作习惯往往也和工艺岗位的布置也有很大关系,应具体分析其原因,如操作者为何会在岗位上低头操作呢?这是一个良好的管理者应该分析的问题,我们通过图中来分析,原因其实只有两点,有时各自高的工作人员会在较低的岗位操作面低头来操作,还有就是该岗位的操作面过低,操作者需要低下头来进行操作,此时我们可以提高操作表面的高度来解决。(见下图) 四、改进气流流动方式 图中工艺设备使气流流动造成了絮流,也许是局部热源的问题造成的絮流,我们可以通过改进气流的流动方式来避免这种问题,可以在该设备上方设置一个局部的排风,将热源通过排风管道带走,使洁净气流倒置的通过该设备,当热源的热度不高或是影响不大时我们也可以使用局部加强风速的方法来解决该污染问题。(见下图)
总结: 洁净其实很简单,不论是设计者或是管理者都应该遵循的就是你要做什么?你要保护什么?让主流区通过你的工艺产品、避免遮挡这就是洁净气流设计的原则,你可以调整工艺设备的布置,可以改变设备构造及外形,还可以规范人员的操作以及改进气流的流动形式来避免物理遮挡和交叉感染;另外在非单向流洁净室中可以设置局部层流、微环境、洁净棚等提高你要保护产品的区域,还是那句话:“你要做什么?你要保护什么?”。 相关阅读: 洁净室的控制方法 转载必须留回链!
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文章录入:icccs 责任编辑:icccs.cn | |||||
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