5.1.2 依照Y 方向切其剖面观察气流对薄膜影响

    按Y 方向分别在位置Y=0.4、Y=0.8、Y=1.2、Y=1.4、Y=2 取其剖面，如图19~31。当Y=0.4 时， 如图19~20，因为離地板位置很近，在地板回风口处附近的气流，因为受到地板回风，而使得气流往中间 流动，而在兩地板回风中间之位置，没有气流來补气而造成中间气流旋转，在地板回风处附近速度约为 0.4m/s，其它位置之平均速度约为0.1m/s；当Y=0.8 时，如图21~23，離地板有一段距離，所呈现之气流 现象与Y=0.4 位置之气流差不多，但是在地板回风处速度约为0.33m/s，其它位置之平均速度约为0.1m/s； 当Y=1.2 时，如图24~26，刚好在薄膜下方10cm 位置，其所呈现之气流现象也与Y=0.4 及Y=0.8 位置之 气流差不多，但是速度却大大的小于Y=0.4 及Y=0.8 之速度，其在回风口附近之速度约为0.15m/s，其它 位置之平均速度约为0.05m/s；当Y=1.4 时，如图27~29，刚好在薄膜上方10cm 位置，其在薄膜上方之 流场为很平顺流畅的往B 区流动，其平均速度约为0.05m/s；当Y=2 时，如图30~31，其流场流动方式如 Y=1.4 相似，也是很平顺流畅的往B 区流动，平均速度约为0.05m/s。

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