第15届污染控制协会国际同盟(ICCCS-International Confederation of Contamina—tion Co ntrol Societies)国际研讨会及第3l届北欧污染控制讨论会(15th ICCCS Interna—tiorml Symposium ＆ 31st R3-Nordic Symposium on Contamination Co ntro1)于2000年5月14～18日在丹麦首都哥本哈根召开。

    两年一度的ICCCS 国际研讨会集中反映了世界范围污染控制、洁净技术的最新成果、最新信息，代表了本领域的现代水平。

    本次会议的东道主是R。Nordic，即丹麦、挪威、芬兰、瑞典4国共有的“洁净室与污染控制协会”。

    ICCCS现有17个成员国，涵盖了20个国家和地域：中、美、英、俄、法、德、日、意、瑞士、荷兰、比利时、爱尔兰、苏格兰、澳太利亚、巴西、韩国、丹、挪、芬、瑞典等，基本上都是在现代科技和洁净技术方面具有实力的工业国家。

    美国是以著名的环境科学与技术学会(IEST-Institute of Environmental Sciences＆Technology)，El本是以日本空气洁净协会(JACA-Japan Air Cleaning Association)的名义参加ICCCS.

    中国电子学会洁净技术分会为和国际组织相呼应，以中国污染控制协会(CCCS--Chinese Co ntamination Co ntrol Society)的名义，于l 984年就参加了该同盟。从第7届研讨会开始，历届都派出人员参加ICCCS国际研讨会，对促进我国洁净技术发展和国际交流，起了重要的作用。

    本次会议约有600人到会，会议共接受了85篇论文，审评工作由瑞典皇家学院著名的教授伯格特博士主持，最后论文集刊载了66篇论文。其中日本为13篇，占19.7 %，东道国丹麦、瑞典各10篇各占15.2% ，美国7篇，德国5篇，英、意、芬各3篇，中、法各两篇.

    在制药科学与技术国际协会主席爱特姆德博士(美国)和瑞典药品首席督察官兰那特博士的主持下，涂光备于5月17 El上午在主会场作了题为《中国GMP标准的沿革和发展》的报告．除介绍中国GMP标准自1982年以来的演化，着重比较了1998年6月l9日公布的中国GMP标准，与1998年施行的欧洲GMP标准的异同，提出了加强国际合作，促使GMP标准逐步全球一体化的设想。在会上回答问题中肯定了中国主管部门重视制药企业的GMP标准执行工作，为提高药品品质的努力收到了成效。王莱在102分会场宣读了论文。这两个报告受到了与会人员的真诚赞赏。

本次会议主要的议题集中在以下几方面。

    (1)随着超超太规模集成电路(VVI sI—very Very I．,arge Scale Integration)技术的飞速发展，4G位的动态随机存储器(DRAM-Dynomic Random Access Memory)在近年即将面市，相应0.0l 粒尘的控制技术需全面落实。对由于高教空气过滤器(HEPA filter—HighEfficiency Paticulate Air Filter)所引起的分子污染(AMCs—Airborne molecular Contami—nants)、硼污染等提出了研究报告。对分子污染的机理及动态模拟发表了文章。

    这些都是我国尚未涉及的领域。

    (2)对国际标准ISO 14644的内容、细节以及与各国现行标准的坍调问题，展开了讨论。

    (3)对GMP标准的垒球一体化及制药工业的空调净化措施和节约能耗方面发表了论文，进行了研讨.

    (4)对新研制的一些产品，如特氟隆膜技术替代玻璃纤维材料的HEPA，ULPA 作了介绍和分析。

    从报告和会议论文中反映出的先进成果、新信息、新理论、新应用有如下一些。

    对洁净室空气中分子污染的特点和规律有了新的分析与研究，例如，指出了洁净室围护结构材料产生某些分子污染。日本对目前普遍使用的HEPA 过滤器所采用的玻璃纤维材料对IC工艺所造成的硼分子污染，进行了测定与分析.

    对由于空气过滤器材质所引起的分子污染的移动特性进行了理论分析，建立了数学模型；利用污染物质的分子吸收模型对表面污染物浓度进行判断，对沉积在旋转磁盘微粒的数学分析。

    开发替代传统HEPA，UI PA过滤器的玻纤滤纸的特氟隆(PTFE)超高效空气过滤器，效率可达0．1～0．2 m，1>99．9999 ，采用无水硅、聚丙乙稀等标准尘替代可能引起污染的DOP标准尘。

    在本领域，除了在个别理论问题上较国外有较深入的探讨面外，在技术上．工程实践、检测手段等方面和国外差距较大 如同在超大规模集成电路(VLSI)方面一样，我国与国外的差距，应在5～10年。相对而言，洁净技术赶上去的机会和可能性比IC产业可能还快，但无
IC产业的带动．洁净技术又不可能独立发展。

出席会议有以下几点建议。

    (1)洁净技术在电子、制药、食品、化妆品、冶金、医疗等行业使用日趋广泛，但目前大学中教材、选修课等反映的内容偏弱急待充实。以往忽视表面污染的理论分析与研究，建议今后重视，加以完善.

    (2)虽然网络、刊物也提供了国外信息、研究动向，但有些问题只有面对面交谈、交换意见、观点，才可能真正透澈地了解国外同行研究的深度，问题所在，才可能为我们科研的切人点找准位置，提高效率。这种国际会议应该坚持派人去参加，国家在经费上应予以资助.

    (3)如国际会议约请国内学者担任分会主席以上职务，国家应予支持，以扩大我国在国际学术界的影响。