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IMFT25纳米工艺晶圆厂洁净室

图片作者：未知

更新时间：2010-9-26 14:46:31

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IMFT25纳米工艺晶圆厂洁净室

在电子科技的迅猛发展的今天，同样也带动了空气洁净产业的发展。

从2003年130nm工艺到2005年的90nm工艺以及2007年的50nm工艺、2009年的34nm工艺以至现在的25nm工艺。线间距越来越小，同样的洁净度等级要求也越来越高。

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